(Ni,Fe)S1+x薄膜材料的制备及电性能研究

摘要

以硫酸亚铁铵((NH4)2Fe(SO4)2·6H2O)、 硫酸镍(NiSO4·6H2O)和硫代乙酰胺(C2H5NS)为原料,采用化学水浴沉积法制备出(Ni,Fe)S1+x的薄膜.利用XRD、FE-SEM、EDS和半导体测试仪等手段对所得产物进行表征分析.结果表明,当Ni2+的加入量为20%、32%、50%、70%时可以沉积成膜,当加入量为85%和100%时不能沉积成膜;随着Ni2+元素的增加,薄膜(Ni,Fe)S1+x阻值在不断降低,相应阻值由4.65×103Ω减小到24.17Ω,表明其导电性能不断增加.