工艺条件对柔性衬底ITO薄膜光电性能的影响

摘要

采用直流磁控溅射法在柔性衬底上镀制ITO透明导电薄膜,全面研究了薄膜厚度、氧气流量、溅射速率、溅射气压和镀膜温度等工艺条件对ITO薄膜光电性能的影响.结果表明,当膜厚大于80 nm、氧氩体积比为1∶40、溅射速率为5 nm/min、溅射气压在0.5 Pa左右、镀膜温度为80～160 ℃时, ITO薄膜的光电性能较好,其电阻率小于5×10-4 Ω·cm、可见光透光率大于80%.