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曹威; 邓朝晖; 李重阳; 葛吉民;
湖南科技大学难加工材料高效精密加工湖南省重点实验室;
湖南科技大学机电工程学院;
化学机械抛光; 抛光垫; 设计制备; 磨损; 修整;
机译:柔性纤维调节剂,用于抛光垫的精细调节及其在化学机械抛光中的评价:SUS-FFC验证软氨基甲酸酯泡沫垫及PEEK-FFC的建议
机译:化学机械抛光中的抛光垫调节:调节密度分布模型以预测抛光垫表面形状
机译:化学机械抛光中垫的特性及垫磨损对材料去除均匀性影响的实验分析
机译:抛光垫抛光垫电化学机械抛光平整度研究
机译:使用总体平衡模型对化学机械抛光中的垫磨损和垫修整进行建模。
机译:基本原理和概念下垫面的发育中的大脑mRI研究进展
机译:用于控制化学机械抛光垫轮廓形状的调节过程的运动预测及实验证明
机译:碳化硅的化学机械抛光
机译:化学机械抛光垫修整剂,化学机械抛光工具,化学化学抛光垫的修整方法和化学机械抛光垫
机译:化学机械抛光垫及使用该化学机械抛光垫的化学机械抛光方法
机译:如何使用化学机械抛光垫和具有整体窗口以减少缺陷的化学机械抛光垫对衬底进行化学机械抛光
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