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公开/公告号CN102601727B
专利类型发明专利
公开/公告日2015-02-18
原文格式PDF
申请/专利权人 清华大学;
申请/专利号CN201210082661.4
发明设计人 刘宇宏;韩桂全;雒建斌;郭丹;路新春;
申请日2012-03-26
分类号B24B37/24(20120101);
代理机构11246 北京众合诚成知识产权代理有限公司;
代理人史双元
地址 100084 北京市海淀区北京市100084-82信箱
入库时间 2022-08-23 09:23:46
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-02-18
授权
2012-09-26
实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/24 申请日:20120326
实质审查的生效
2012-07-25
公开
机译: 化学机械抛光垫修整剂,化学机械抛光工具,化学化学抛光垫的修整方法和化学机械抛光垫
机译: 化学改性的化学机械抛光垫,制造改性的化学机械抛光垫的方法以及化学机械抛光的方法
机译: 化学机械抛光垫及使用该化学机械抛光垫的化学机械抛光方法
机译:基于数字图像相关处理的化学机械抛光垫修整器性能评估方法
机译:使用冷冻蚀刻剂垫的新化学机械抛光方法
机译:抛光垫抛光垫电化学机械抛光平整度研究
机译:使用总体平衡模型对化学机械抛光中的垫磨损和垫修整进行建模。
机译:化学机械抛光实施后化学机械抛光对钛植入物表面性质的影响FT-IR和钛植入物表面的润湿性数据
机译:化学机械抛光后化学机械抛光对钛植入物表面性质的影响FT-IR和钛植入物表面的润湿性数据
机译:碳化硅的化学机械抛光