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成立; 王振宇; 朱漪云; 刘合祥;
江苏大学电气信息工程学院;
超大规模集成电路; 纳米半导体器件制备技术; 极紫外光刻;
机译:通过极紫外干涉光刻技术制备的纳米级垂直磁岛阵列
机译:用于ULSI的极紫外纳米光刻技术
机译:通过软紫外纳米压印光刻技术在陶瓷薄膜和硅基板上制备纳米级图案
机译:Talbot极紫外光刻技术制备的周期性纳米结构
机译:强烈的毛细管放电等离子体极紫外光源,用于极紫外光刻和其他极紫外成像应用。
机译:使用粒子光刻技术在Si(111)上制备4-(氯甲基)苯基三氯硅烷和5101520-四(4-吡啶基)-21H23H-卟啉的异质结构:纳米图案化主要步骤的纳米级表征
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。
机译:使用极紫外/软X射线激光干涉术的纳米级光刻技术
机译:利用直接写电子束光刻技术形成的亚微米硅化物结构制造极紫外和深紫外光刻技术的面罩的方法
机译:极紫外掩膜毛坯,使用极紫外掩膜毛坯,光刻技术,使用光掩膜制造的方法,以及使用光电掩膜的半导体器件的制造方法
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