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邹晓; 蒋万翔; 徐静平;
江汉大学机电与建筑工程学院;
许昌职业技术学院机电工程系;
华中科技大学电子科学与技术系;
锗金属氧化物半导体; 氧化钛铪; 表面预处理; 界面层; 高k; 磁控溅射法;
机译:高迁移率Ge_(1-x)Sn_x和Ge MOS电容器上不同表面预处理的氧化镁层的电性能
机译:湿法非Ge表面预处理改善了Hftio / geo_xn_y栅介电Ge Mos电容器的电性能
机译:Ge表面预处理在湿式NO中提高了HfTiON高k介电质Ge MOS电容器的可靠性
机译:具有表面预处理的电气性能和可靠性对GE MOS电容的影响
机译:取代的A3MO4F的结构和光致发光特性(A = Sr,Ba,Ca; M = Al,Ga,In,Si和Ge)
机译:利用原子层沉积的TiO2 / Al2O3栅叠层表征外延GaAs MOS电容器:Ge自掺杂和p型Zn掺杂的研究
机译:高频mOs电容 - 电压特性对氧化物电荷不均匀性对快速表面态密度影响的实验观察。
机译:击穿式冲击电离mos晶体管(PI-MOS)中基于迟滞特性的无电容器存储和突变开关
机译:作为补偿其暴露的边缘的收缩的影响的方式,电容器补偿了暴露的边缘的收缩的影响,并且在电阻器空IC表面上补偿了收缩的影响。
机译:测量对电容元件的电容-电压特性的影响量的电路和方法
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