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赵程; 彭红瑞; 李世直;
青岛化工学院;
Ti-N-C膜; TiN膜; PCVD;
机译:在In0.82Al0.18As上通过电感耦合等离子体化学气相沉积和等离子体增强化学气相沉积生长的氮化硅膜的界面特性
机译:通过等离子体增强化学气相沉积法沉积的纳米钛膜的特性,以及通过物理气相沉积法将膜的性能与该膜进行比较
机译:使用光学显微镜检查热退火等离子体增强化学气相沉积和热线化学气相沉积a-Si:H膜中的晶体成核和生长
机译:使用TMOS / O / Sub 2 / Su / Su / Sir和等离子体诊断增强氧化硅膜和氮氧化硅膜的化学气相沉积的等离子体增强了化学气相沉积
机译:对二氧化硅膜的热化学气相沉积(CVD)和多晶硅膜的高密度等离子体CVD过程中颗粒形成和传输的研究。
机译:He / H2 / CH4 / N2混合物的微波等离子体化学气相沉积法沉积超光滑纳米结构金刚石(USND)涂层的合成及机械磨损研究
机译:脉冲功率振幅对大功率脉冲等离子体增强化学气相沉积中等离子体性质和膜沉积的影响
机译:化学气相沉积和等离子体辅助化学气相沉积技术制备碳 - 碳复合材料氧化保护体系的研究。
机译:通过等离子体化学气相沉积形成沉积膜的方法和通过等离子体化学气相沉积形成沉积膜的设备
机译:等离子体化学气相沉积法制成的化学气相沉积化学气相沉积膜
机译:等离子体增强化学气相沉积系统及等离子体增强化学气相沉积膜沉积方法
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