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陈光华; 张兴旺; 岳金顺; 严辉;
北京工业大学应用物理系;
兰州大学物理系;
氮化硼薄膜; CVD法; 衬底; 半导体薄膜;
机译:等离子体在较低衬底温度下通过等离子体增强热丝CVD对碳纳米管生长的影响
机译:热丝CVD法模拟硅片上金刚石薄膜生长中衬底温度分布
机译:等离子体增强的热丝化学气相沉积法在取向碳纳米片生长中的等离子体效应
机译:用于大面积金刚石膜沉积的热丝CVD反应器中的多丝阵列和衬底支架的设计
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:用热丝CVD法模拟硅片上金刚石薄膜生长中衬底温度分布
机译:使用光谱椭偏法对si:H薄膜进行热丝CVD生长的实时表征:预印刷。
机译:降低等离子体增强CVD工艺中的等离子体边缘效应
机译:等离子体增强CVD法沉积薄膜的形成装置及其形成方法
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