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张楷亮; 宋志棠; 封松林; Chen Bomy;
中国科学院上海微系统与信息技术研究所半导体功能薄膜工程技术研究中心信息功能材料国家重点实验室;
超大规模集成电路; 化学机械抛光; 纳米; 抛光液; 全局平坦化;
机译:超大型系统集成(ULSI)中铜化学机械抛光(CMP)和CMP后清洗的综述-电化学角度
机译:ULSI制造过程中的化学机械抛光
机译:Ulsi铝合金互联线路化学机械超精密工艺技术研究
机译:纳米级体MOSFET设计和工艺技术可减少变化。
机译:分支细胞对称性和其他关键纳米级设计参数在确定树枝状大分子包封性能中的作用
机译:纳米siO2在ULsI硅基化学机械抛光过程中的作用研究
机译:JpRs报告,科学与技术:日本。 ULsI工艺技术研讨会。
机译:浅沟槽隔离生产,特别是在VLSI或ULSI制造中的硅晶片中,涉及使用具有悬吊通道的化学机械抛光支架套筒进行绝缘层平面化
机译:非工作安全带预紧器高精度冷锻工艺技术开发及关键零部件
机译:通过非关键化学机械抛光的浅沟槽隔离器
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