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郝江波; 夏冬林; 姜宏; 赵修建;
武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室;
中国洛阳浮法玻璃集团有限责任公司;
非晶硅薄膜; 折射率; 吸收系数; 光学禁带宽度;
机译:PECVD法制备非晶硅薄膜中嵌入的硅纳米晶体的结构和光学性质
机译:使用硅烷和氮气通过VHF-PECVD制备的非晶氮化硅薄膜的光学性质
机译:通过LF-PECVD制备的氢化非晶硅锗薄膜的生物相容性和表面性质
机译:微波等离子体电子回旋共振化学气相沉积法沉积的纳米晶和非晶硅薄膜晶体管:材料分析,器件制造和表征。
机译:通过PECVD在镍金属化多孔硅上沉积的非晶硅薄膜的结晶
机译:VHF-PECVD法制备微晶硅薄膜的电子输运性质
机译:添加到阅览室阅读软件下载与<<辉光放电分解制备离子镀和氢化非晶硼薄膜制备氢化非晶硅薄膜及其表征>>相似的文献。最终报告,1980年4月1日至1981年5月31日
机译:感应耦合化学气相沉积法,非晶硅薄膜,氮化硅薄膜和使用瑟勒夫制成的非晶薄膜晶体管
机译:包含非晶硅氧化物粘合剂的MGF2光学薄膜,具有相同光学器件的光学膜以及制备这种MGF2光学薄膜的方法
机译:包括非晶硅氧化物粘合剂的MGF2光学薄膜,由其提供的光学元件以及制备MGF2光学薄膜的方法
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