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蒋志; 王勇; 赵海军;
清华大学微电子所;
CMOS; 工艺; 源漏穿通电压; 2μmp阱;
机译:通过牺牲选择性外延提高源/漏极的性能,以实现高性能深亚微米CMOS:工艺窗口与复杂性
机译:45nm CMOS技术中HALO和源/漏注入变化对阈值电压的影响
机译:加速准直流方法和电路,用于测量CMOS工艺技术中器件的栅漏耦合电容
机译:KOH电化学刻蚀与无源电压对比技术在深亚微米CMOS漏栅识别中的应用
机译:低于100nm CMOS和低于70nm完全自对准双栅极CMOS的钨/硅锗/硅凸起单源/漏极的设计,制造和表征
机译:采用四阱技术的单片有源像素传感器(MAPS)可实现接近100%的填充因子和完整的CMOS像素
机译:电源电压对双阱和三阱28 nm CMOS SRAM多单元翻转软错误敏感性的影响
机译:CmOs电压折叠电路的分析与设计及其在高速aDCs中的应用
机译:分离式多晶硅CMOS工艺结合了未掩盖的穿通和源极/漏极注入
机译:在CMOS工艺流程中采用双阱剂量法形成高漏极耐压MOSFET晶体管的方法
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