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孙俊峰; 石霞;
南京电子器件研究所;
内应力; 二氧化硅薄膜; 等离子增强化学气相淀积;
机译:SiO_2光学薄膜内应力的时间变化和光学特性
机译:用于顶栅金属氧化物薄膜晶体管的堆叠PECVD SIO_2栅极绝缘体在增强操作模式下
机译:通过PECVD制造的氮氧化硅薄膜的内应力和光学特性的光学干涉测量研究
机译:薄膜的内应力研究
机译:掺硼金刚石薄膜中电导率和自由载流子的Drude模型分析及其内应力和应变研究
机译:PECVD研究SINX薄膜的制备技术研究
机译:用于研究仪器的pECVD(等离子体增强化学气相沉积)金刚石薄膜
机译:用于制造sio_2薄膜的材料的方法和使用相同的sio_2薄膜的方法
机译:高纯度SiO_2薄膜的形成
机译:Cat-PECVD方法,使用与薄膜相同的薄膜装置形成的薄膜以及薄膜处理系统
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