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空间滤波技术应用于光掩模缺陷的检查

         

摘要

<正>一、前言 光掩模的图形质量对LSI的电路性能和成品率影响很大。根据经典统计分布原理,可推得随机缺陷密度与IC成品率的关系是: Y=multiply from l=1 to(1/(1+DlqlA))(1) 式中:Dl——第l块掩模上的平均缺陷密度; A——IC单元电路芯片面积; l——光刻次数; ql——缺陷的置命度。 根据式(1)可得到图1所示的曲线,这组曲线

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