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Cr薄膜的沉积与湿法刻蚀工艺研究

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摘要

通过台阶仪和扫描电镜、原子力显微镜测试观察了PVD方法制作Cr薄膜的溅射速率和表面形貌,实验分析了相关工艺参数对溅射速率的影响情况,并对薄膜的湿法刻蚀工艺进行了初步研究.同时给出了Cr膜与其腐蚀后的电阻图形的显微镜照片.

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来源
《传感技术学报》|2006年第5期|1437-1440|共4页
作者
李兆泽; 徐超; 吴学忠; 万红; 李圣怡;
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作者单位

国防科技大学机电工程与自动化学院,长沙,410073;

国防科技大学航天与材料工程学院,长沙,410073;

国防科技大学机电工程与自动化学院,长沙,410073;

国防科技大学航天与材料工程学院,长沙,410073;

国防科技大学机电工程与自动化学院,长沙,410073;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类机械制造工艺;
关键词
PVD; 薄膜; 湿法刻蚀; 台阶仪; 扫描电镜; 原子力显微镜;

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