沉积工艺参数对碳纳米管薄膜场发射性能的影响

摘要

利用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)方法,在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜.通过SEM、拉曼光谱和XRD表征,讨论了制备温度和甲烷浓度对碳纳米管膜场发射的影响.结果表明:不同条件下制备的碳纳米管膜的场发射性能有很大差异,保持氢气的流量(100 sccm)、生长时间(10 min)、反应室压力不变,当甲烷流量为8 sccm、温度为700～800 ℃时,场发射性能最好,开启场强仅为0.8 V/μm,发射点分布密集、均匀.