首页> 中文期刊> 《发光学报》 >铜掺杂氧化锌薄膜阻变特性的研究

铜掺杂氧化锌薄膜阻变特性的研究

             

摘要

以ZnO∶ Al为底电极,Cu为顶电极,在同种工艺条件下分别制备了类电容结构的纯ZnO阻变器件和ZnO∶2%Cu阻变器件,分析比较了两种器件的典型I-V特性曲线、置位电压(Vset)和复位电压(VReset)的分布范围、器件的耐久性.结果显示,ZnO∶Cu阻变器件较纯ZnO阻变器件有更大的开关比和更稳定的循环性能.另外,研究了ZnO∶Cu阻变器件的阻变机理,通过对其I-V特性曲线分析得出以下结论:ZnO∶Cu阻变器件在高阻态遵循空间电荷限制电流效应,低阻态符合欧姆定律.

著录项

  • 来源
    《发光学报》 |2014年第5期|604-607|共4页
  • 作者单位

    电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都610054;

    电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都610054;

    电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都610054;

    电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都610054;

    电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都610054;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TN304.21;
  • 关键词

    铜掺杂氧化锌; 阻变开关; 空间电荷限制电流效应;

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号