首页> 中文期刊> 《中国集成电路》 >CMOS LSI工艺/墨件技术的动向

CMOS LSI工艺/墨件技术的动向

         

摘要

本文着重分析了关于CMOS LSI工艺/器件技术研究与开发的主流趋势中所面临的主要技术课题,并就目前所进行的典型的对策进行了研究探讨。阐述了新时期对CMOS LSI工艺与器件技术及其应用所要做出的选择,并介绍了CMOS LSI未来新技术的发展方向。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号