磁控溅射制备非晶态WO3薄膜的光催化性能

摘要

采用射频反应磁控溅射工艺在玻璃基片上沉积了非晶态WO3薄膜.通过光催化降解亚甲基蓝和罗丹明B溶液实验,研究了所制WO3薄膜的光催化活性和使用寿命.X射线衍射(XRD)分析表明:所制备的WO3薄膜为非晶态.光催化实验表明:紫外光照3 h后,薄膜对亚甲基蓝和罗丹明B溶液的最大降解率分别为83.26%和72.73%.重复使用3次后,薄膜对亚甲基蓝的降解率保持在75%以上,7次使用后薄膜基本丧失光催化活性.采用去离子水超声处理30 min的方法可使已失活薄膜对亚甲基蓝的降解率从20% 恢复至81%.