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邵其鋆; 霍裕昆; 陈建新; 吴士明; 潘正瑛;
不详;
离子轰击; 入射角; 溅射参数;
机译:溅射产生的离子轰击表面上的波纹结构取决于入射角
机译:Sub-keV O-2(+)离子轰击对非晶硅表面进行瞬态溅射的入射角依赖性
机译:俄歇溅射轮廓Ni / Cr界面的界面深度分辨率:取决于离子轰击参数
机译:磁控溅射生长膜的低离子轰击和高离子轰击制备的nc-TiC / a-C:H涂层的摩擦学性能
机译:溅射参数对RF磁控溅射沉积ITO膜的影响
机译:在硅的低能氩离子轰击下从波纹到刻面结构的转变:了解阴影和溅射的作用
机译:受氙离子轰击影响的金刚石,碳 - 碳复合材料和钼的低能量溅射产率
机译:溅射涂覆方法,包括在包含溅射等离子体和第二等离子体的单独的真空区域中用离子轰击衬底
机译:用于离子轰击,使用该离子轰击装置的离子轰击电极以及离子轰击方法
机译:在磁控溅射系统中改善均匀离子轰击的方法和设备
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