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张晓平; 高志强; 孙碧武; 谢侃; 林彰达;
不详;
金刚石 ; 薄膜 ; 硅; 结构稳定性 ;
机译:铜基体预沉积铜-金刚石复合过渡层金刚石膜的制备与表征
机译:等离子体增强化学气相沉积在Si衬底上掺氮类金刚石碳膜的结构和电学性质以及电流电压特性
机译:CVD金刚石膜与强碳化物形成元素之间的碳化物过渡层的系统研究
机译:类金刚石碳膜和金刚石膜的生长和特征:原子氢束的作用和电子场发射的研究。
机译:过渡金属掺杂对通过溶胶-凝胶法沉积在Si衬底上的TiO2膜的结构光学和磁性的影响
机译:用微波等离子体化学气相沉积(MWCVD)法在(100)Si衬底上沉积织构金刚石膜
机译:通过电子回旋共振等离子体氧化在(100)si衬底上生长的薄(<10nm)siO(sub 2)膜的结构和界面特性。
机译:厚度比得到改善的金刚石过渡层结构
机译:具有改进的厚度比的金刚石过渡层结构
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