大面积金刚石膜/Si衬底复合片均匀性研究

摘要

对直流电弧等离子体喷射化学气相沉积技术,在φ76.2 mm的Si衬底上沉积得到的金刚石膜,通过SEM和激光Raman表征其质量均匀性.为缓解金刚石膜 /Si复合片的内应力,采用台阶式冷却的方式,对样品在1 050 ℃进行真空退火处理,使样品内的压应力从3.09 GPa减小到1.16 GPa.对样品生长面进行机械抛光,采用表面轮廓仪检测其表面粗糙度均匀性.结果表明:在φ76.2 mm的金刚石膜/Si复合片上获得的表面粗糙度小于5 nm.