Colorado State University.;
机译:纳米级ULSI器件制造中高级等离子体刻蚀工艺的等离子体表面相互作用:数值和实验研究
机译:通过等离子体表面模拟和实验研究在硅上的Cl-2 / O-2 / Ar电感耦合等离子体的蚀刻和沉积过程
机译:超低k相容性二氧化碳原位光刻胶灰化过程的机理研究。二。与先前的碳氟化合物等离子体超蚀刻工艺的相互作用
机译:干法刻蚀过程中等离子体与表面相互作用的分子动力学模拟
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:Zn(oS)薄膜喷射沉积在质谱期间气相化学的机械研究
机译:使用全氮配位的前驱物进行氮化铌和氮氧化物的MOCVD:薄膜沉积和机理研究