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蒋舒宇;
上海交通大学;
半导体企业; 晶圆光刻; 生产管理; 流程调度;
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机译:通过径向基神经网络优化晶圆制造中光刻的光刻胶涂层工艺:案例研究
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机译:预测由于光学和EUV光刻制造工艺的相互作用而导致的器件晶圆上的覆盖错误
机译:基于边缘光刻技术的高纵横比纳米通道的晶圆级制备
机译:使用从相移光栅成像的目标上进行叠加测量的光刻系统基于晶圆的像差计量
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机译:SOI晶圆和通过晶圆接触和电连接晶圆接触的基于沟槽的互连结构形成SOI晶圆的方法
机译:基于原位晶圆温度光学探头基于连续晶圆温度测量的等离子反应器晶圆温度漂移校正
机译:基于神经网络模型的晶圆图缺陷模式识别方法及计算机程序
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