晶圆重复性光刻缺陷检查分析方法、系统及晶圆生产方法

摘要

为解决现有传统人为镜检导致的晶圆重复性光刻缺陷难以有效检出，容易漏检或误检的问题，本发明实施例提供了一种晶圆重复性光刻缺陷检查分析方法、系统及晶圆生产方法。晶圆重复性光刻缺陷检查分析方法，包括如下步骤：S1、缺陷检查步骤：对被抽选晶圆上的缺陷进行全片扫描；S2、缺陷分析步骤：比较所述被抽选晶圆缺陷的位置信息和尺寸信息；判断分析的该批次晶圆中是否存在重复性光刻缺陷。本发明由于对被抽选晶圆进行全片扫描，并对扫描数据进行特殊的比对分析，从而可以有效、全面的检出重复性光刻缺陷，可避免漏检或误检，便捷性较高，能进一步提高光刻过程中的成品率，降低出货风险。