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致谢
1.引言
2.绪论
2.1 ZnO的基本性质
2.2材料的磁性
2.2.1材料磁性的微观机理
2.2.2材料磁性的分类
2.2.3磁滞回线
2.3稀磁半导体材料
2.3.1稀磁半导体的特性
2.3.2 ZnO基稀磁半导体材料的研究进展
2.4稀磁半导体材料的制备方法
2.5稀磁半导体材料的研究进展
3.实验原理和实验过程
3.1脉冲激光沉积技术(PLD)
3.2脉冲激光沉积的基本原理
3.3 PLD技术优缺点
3.4实验工艺过程
3.4.1靶材的制备
3.4.2衬底及清洗
3.4.3薄膜的制备过程
3.5样品的测试与表征
3.5.1 X射线衍射(XRD)
3.5.2场发射扫描电镜(FE-SEM)
3.5.3 X射线光电子能谱(XPS)
3.5.4同步辐射
3.5.5超导量子干涉仪测试(SQUID)
4.Ni掺杂ZnO薄膜的制备与表征
4.1生长室氧压对薄膜性能的影响
4.1.1形貌分析
4.1.2成分分析
4.1.3结构分析
4.1.4光学性能分析
4.1.5电学性能分析
4.2靶材中的Ni含量对Ni掺杂ZnO薄膜性能的影响
4.2.1靶材中的Ni含量对Ni掺杂ZnO薄膜表面形貌的影响
4.2.2靶材中的Ni含量对Ni掺杂ZnO薄膜结构的影响
4.2.3靶材中的Ni含量对Ni掺杂ZnO薄膜光学性能的影响
4.2.4靶材中的Ni含量对Ni掺杂ZnO薄膜电学性能的影响
4.2.4磁学性能分析
5.受主和施主元素对ZnNiO薄膜铁磁性的影响
5.1 Zn(Ni,Ga)O薄膜的制备与表征
5.1.1 Zn(Ni,Ga)O薄膜的制备
5.1.2 Zn(Ni,Ga)O薄膜的表面形貌和成分分析
5.1.3薄膜的晶体结构分析
5.1.4薄膜的电学和光学性能分析
5.1.5薄膜的磁学性能分析
5.2 Zn(Ni,Na)O薄膜制备与性能研究
5.2.1 Zn(Ni,Na)O薄膜的形貌分析
5.2.2 Zn(Ni,Na)O薄膜的结构分析
5.2.3 Zn(Ni,Na)O薄膜的电学和磁性分析
5.3不同p型增强稀磁半导体薄膜对比
5.4导电类型对薄膜磁性的影响
6结论
参考文献
作者简历及在学期间所取得的科研成果