文摘
英文文摘
声明
1前言
1.1微电子工艺的发展
1.2本课题的概述
1.3论文的内容介绍
2高性能的微电子器件
2.1表面粗糙度对微电子器件特性的影响
2.1.1表面粗糙度对载流子迁移率的影响
2.1.2表面粗糙度对于器件1/f噪声的影响
2.2半导体清洗的基本原理
2.2.1金属杂质问题
2.2.2颗粒杂质问题
2.2.3有机物杂质问题
2.3高效率的前端(FEOL)清洗
3硅片表面的平坦化技术
3.1平坦化方法的研究
3.1.1 Si片的平坦化实验
3.1.2分析
3.2小结
4清洗对硅片表面粗糙度的影响
4.1 RCA清洗法及五步清洗法
4.2在大气环境中清洗后表面粗糙度的变化
4.2.1在大气环境中的清洗
4.2.2小结
4.3在氮气环境中清洗后表面粗糙度的变化
4.3.1清洗中光线的影响原理
4.3.2五步清洗法
4.3.3不同波长光线及不同光照度对表面粗糙度的影响
4.4小结
5总结
5.1硅表面的平坦化技术
5.2维持表面平坦度的最佳清洗方式
致谢
参考文献
在校学习期间所发表的论文