声明
摘要
1 绪论
1.1 PZT厚膜及其应用
1.1.1 压电材料与PZT厚膜
1.1.2 PZT厚膜的制备方法
1.1.3 PZT厚膜的应用
1.2 电射流沉积技术简介
1.2.1 电射流沉积的原理
1.2.2 电射流沉积的应用
1.3 本论文的工作与研究思路
2 PZT悬浮液的制备及PZT厚膜的性能表征
2.1 电射流沉积实验装置
2.2 PZT悬浮液的制备
2.3 PZT悬浮液的性质测试
2.4 PZT厚膜的性能表征
2.4.1 PZT厚膜的压电性质测试
2.4.2 PZT厚膜介电性能测试
2.5 本章小结
3 硅衬底的电射流沉积PZT厚膜
3.1 硅片的清洗
3.2 电射流沉积PZT厚膜工艺过程
3.3 电射流参数对厚膜的影响
3.3.1 沉积高度对厚膜的影响
3.3.2 流量对厚膜的影响
3.4 悬浮液混合条件对PZT厚膜的影响
3.4.1 悬浮液球磨处理
3.4.2 球磨时间对PZT厚膜致密性的影响
3.5 PZT厚膜的性能表征
3.6 PZT厚膜的溶胶渗透
3.7 本章小结
4 PZT厚膜的机械抛光及性能分析
4.1 PZT厚膜的机械抛光工艺
4.2 机械抛光PZT厚膜的分析
4.3 PZT膜厚度对其性能的影响分析
4.4 本章小结
5 柔性衬底的电射流沉积PZT厚膜
5.1 铁镍合金衬底的PZT厚膜沉积
5.1.1 铁镍合金衬底的PZT厚膜制备
5.1.2 铁镍合金衬底制备PZT厚膜的性能测试
5.2 不锈钢衬底的PZT厚膜沉积
5.3 本章小结
结论
参考文献
攻读硕士学位期间发表学术论文情况
致谢