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第1章 绪论
1.1 场效应晶体管简介
1.1.1 场效应晶体管基本原理和结构
1.1.2 场效应晶体管基本性能参数
1.2 石墨烯的结构、性质和应用
1.2.1 石墨烯的结构
1.2.2 石墨烯的性质
1.2.3 石墨烯在微电子领域的应用
1.3 石墨烯的制备和表征
1.3.1 石墨烯的制备
1.3.2 石墨烯的表征
1.3.3 小结
1.4 石墨烯电极对的制备方法
1.4.1 电子束曝光
1.4.2 AFM针尖裁剪法
1.4.3 聚合物单分子层掩膜法
1.5 本文选题依据及主要研究内容
1.5.1 论文选题的目的和意义
1.5.2 本文主要的研究内容
第2章 石墨烯电学性能的研究
2.1 石墨烯晶体管的制备
2.1.1 紫外光刻制备源漏电极
2.1.2 金丝掩膜法制备源漏电极
2.2 石墨烯电学性能测试与分析
2.3 小结
第3章 基于石墨烯电极的场效应晶体管的制备及性能研究
3.1 石墨烯电极对的制备方法
3.1.1 碳纤维和金丝交替掩膜法
3.2 基于石墨烯电极的场效应晶体管的性能
3.2.1 基于石墨烯电极场效应晶体管导电沟道的制备
3.2.2 器件的输出特性及转移特性
3.3 小结
第4章 石墨烯纳米间隙电极对的制备研究
4.1 石墨烯纳米间隙电极对在分子器件中的应用
4.2 纳米线掩膜法制备石墨烯纳米间隙电极对
4.3 AFM针尖裁剪法制备石墨烯纳米间隙电极对
4.4 小结
结论与展望
参考文献
附录A(攻读学位期间所发表的学术论文目录)
致谢