封面
声明
中文摘要
英文摘要
目录
1 绪 论
1.1 纳米CMOS集成电路技术的发展
1.2 纳米CMOS器件中的新物理效应
1.3 栅极漏电流的研究意义
1.4 直接隧穿电流模型的研究现状
1.5 本论文的研究工作
2 考虑边缘场的MOS表面势的计算
2.1 MOS结构中的表面电场和强反型层形成
2.2 泊松方程求解表面势
2.3 考虑边缘电场的表面势
2.4 边缘电容对表面势的影响
2.5 结果讨论与分析
2.6 本章小结
3 直接隧穿电流解析模型
3.1 模型采用的近似
3.2 氧化层电场
3.3 MWKB方法计算隧穿几率
3.4 计算结果讨论分析
3.5 本章小结
4 HfTaON高k栅介质电特性分析
4.1 概述
4.2 样品制备流程
4.3 MOS器件电参数的提取
4.4 实验测量结果分析
4.5 小结
5 总 结
致谢
参考文献
华中科技大学;