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张燕;
河北工业大学;
TSV; CMP; 碱性抛光液;
机译:扩展D加工和CMP代工业务除了MEMS / TSV,还支持半导体制造预处理CMP到客户工厂的工艺转移服务
机译:吡唑在碱性机械化学抛光抛光液中作为铜缓蚀剂的研究
机译:在300 mm Applied Materials Reflexion LK系统上使用碱性块状铜浆进行CMP工艺优化
机译:通过有针对性地调整抛光液和抛光垫,改善化学机械抛光CMP工艺的性能
机译:钨和铜的化学机械平面化(CMP)工艺的基础研究。
机译:不锈钢304(SS304)流化床化学机械抛光(FB-CMP)工艺初步研究(SS304)
机译:碱性化学抛光液组成对铝亮度和表面形态的影响。
机译:碱性介质中铯,锶和act系元素的联合萃取:碱性溶剂萃取(CssX)工艺技术的扩展;最终的研究
机译:TSV CMP化学机械平坦化CMP组合物和方法因此,通过TSV应用进行铜和通过二氧化硅
机译:CMP的CMP抛光液CMP抛光液组及抛光方法
机译:用于CMP的抛光液,用于CMP的抛光液以及抛光方法
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