退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
第一个书签之前
OLE_LINK47
OLE_LINK331
OLE_LINK332
OLE_LINK23
OLE_LINK3
OLE_LINK117
OLE_LINK10
OLE_LINK32
OLE_LINK31
OLE_LINK302
OLE_LINK303
OLE_LINK317
OLE_LINK7
OLE_LINK64
OLE_LINK65
OLE_LINK54
OLE_LINK88
顾张冰;
河北工业大学;
多层; 铜布线; CMP; 清洗;
机译:开发用于铜布线的CMP后清洗溶液:提高去除有机残留物性能的技术
机译:柠檬酸基清洗液对铜后CMP清洗过程中颗粒附着和去除的影响
机译:一种在铜后CMP清洗中去除胶体二氧化硅磨料的新型清洗剂
机译:后铜CMP清洗过程中TMAH去除BTA的电化学阻抗谱(EIS)分析
机译:开发用于a-SiC和锰CMP的配方以及CMP后的钴清洗。
机译:铜污染酸性果园土壤中高抗铜真菌菌株对铜的吸附特性及机理
机译:不同清洗液和刷洗机运动学对后铜Cmp清洗过程摩擦性能的影响
机译:从海洋环境中去除离子铜污染物。
机译:一种避免铜蚀刻和CMP过程中铜污染的方法
机译:避免铜蚀刻和CMP过程中铜污染的方法
机译:铜布线半导体基板的清洗方法和铜布线基板清洗剂
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。