退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
刘宜霖; 檀柏梅; 高宝红; 岳爽; 刘雅文;
中国电子科技集团公司第四十五研究所 北京100176;
河北工业大学电子信息工程学院 天津 300130;
天津市电子材料与器件重点实验室 天津 300130;
廊坊师范学院 河北廊坊065000;
Cu-BTA(苯骈三氮唑); 傅里叶红外光谱检测技术; FTIR-ITR红外光谱; CMP后清洗;
机译:开发用于铜布线的CMP后清洗溶液:提高去除有机残留物性能的技术
机译:铜的化学溶液/ Low-k:铜的干法蚀刻残留去除溶液/ Low-k / CMP后的清洗溶液
机译:去除多层铜的CMP后晶片表面上的残留CuO颗粒
机译:铜CMP后BTA残留的红外光谱检测与分析研究
机译:减少集成电路的全局布线与详细布线之间的不匹配。
机译:通过红外显微镜通过集成电路的空间位置
机译:CMP浆料成分铜CMP铜钝化动力学的基本机制
机译:原位傅里叶变换红外光谱研究硫酸铜和硫酸盐在金上的吸附,有无铜的欠电位沉积
机译:铜布线抛光用复合材料,半导体集成电路的表面抛光方法以及半导体集成电路的制造铜布线方法
机译:使用超临界二氧化碳工艺去除半导体中的CMP和CMP后残留物
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。