掌桥科研
一站式科研服务平台
科技查新
收录引用
专题文献检索
外文数据库(机构版)
更多产品
首页
成为会员
我要充值
退出
我的积分:
中文会员
开通
中文文献批量获取
外文会员
开通
外文文献批量获取
我的订单
会员中心
我的包量
我的余额
登录/注册
文献导航
中文期刊
>
中文会议
>
中文学位
>
中国专利
>
外文期刊
>
外文会议
>
外文学位
>
外国专利
>
外文OA文献
>
外文科技报告
>
中文图书
>
外文图书
>
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
美国国防部AD报告
美国能源部DE报告
美国航空航天局NASA报告
美国商务部PB报告
外军国防科技报告
美国国防部
美国参联会主席指示
美国海军
美国空军
美国陆军
美国海军陆战队
美国国防技术信息中心(DTIC)
美军标
美国航空航天局(NASA)
战略与国际研究中心
美国国土安全数字图书馆
美国科学研究出版社
兰德公司
美国政府问责局
香港科技大学图书馆
美国海军研究生院图书馆
OALIB数据库
在线学术档案数据库
数字空间系统
剑桥大学机构知识库
欧洲核子研究中心机构库
美国密西根大学论文库
美国政府出版局(GPO)
加利福尼亚大学数字图书馆
美国国家学术出版社
美国国防大学出版社
美国能源部文献库
美国国防高级研究计划局
美国陆军协会
美国陆军研究实验室
英国空军
美国国家科学基金会
美国战略与国际研究中心-导弹威胁网
美国科学与国际安全研究所
法国国际关系战略研究院
法国国际关系研究所
国际宇航联合会
美国防务日报
国会研究处
美国海运司令部
北约
盟军快速反应部队
北约浅水行动卓越中心
北约盟军地面部队司令部
北约通信信息局
北约稳定政策卓越中心
美国国会研究服务处
美国国防预算办公室
美国陆军技术手册
一般OA
科技期刊论文
科技会议论文
图书
科技报告
科技专著
标准
其它
美国卫生研究院文献
分子生物学
神经科学
药学
外科
临床神经病学
肿瘤学
细胞生物学
遗传学
公共卫生&环境&职业病
应用微生物学
全科医学
免疫学
动物学
精神病学
兽医学
心血管
放射&核医学&医学影像学
儿科
医学进展
微生物学
护理学
生物学
牙科&口腔外科
毒理学
生理学
医院管理
妇产科学
病理学
生化技术
胃肠&肝脏病学
运动科学
心理学
营养学
血液学
泌尿科学&肾病学
生物医学工程
感染病
生物物理学
矫形
外周血管病
药物化学
皮肤病学
康复学
眼科学
行为科学
呼吸学
进化生物学
老年医学
耳鼻喉科学
发育生物学
寄生虫学
病毒学
医学实验室检查技术
生殖生物学
风湿病学
麻醉学
危重病护理
生物材料
移植
医学情报
其他学科
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
主题
主题
题名
作者
关键词
摘要
高级搜索 >
外文期刊
外文会议
外文学位
外国专利
外文图书
外文OA文献
中文期刊
中文会议
中文学位
中国专利
中文图书
外文科技报告
清除
历史搜索
清空历史
首页
>
外文会议
>
电子学、通信
>
Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)
Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)
召开年:
召开地:
出版时间:
-
会议文集:
-
会议论文
热门论文
全部论文
相关中文期刊
电波科学学报
信息通信技术
实用影音技术
今日电子
红外技术
中国无线电
电子科技
通信对抗
微细加工技术
福光技术
更多>>
相关外文期刊
Television
Security and communication networks
Students' Quarterly Journal
Signal
Fernmelde-Ingenieur
Electrical Engineers - Part III: Radio and Communication Engineering, Journal of the Institution of
International Journal of Ultra Wideband Communications and Systems
Studio/monthly
Wireless Week
Circuits, systems, and signal processing
更多>>
相关中文会议
2014全国无线及移动通信学术大会
中国电子学会电路与系统学会第十八届年会
中国通信学会2001光缆电缆学术年会
广东省光学学会2009年学术交流大会、粤港澳光学界产学研合作交流大会、广东省光学学会第六次会员代表大会
第二届全国光学青年学术论坛
2013年声频工程学术论坛暨学术交流年会
第十四届全国混合集成电路学术会议
第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议
中国电机工程学会电力通信专业委员会第五届学术会议
2009中国国际多媒体视讯高峰论坛
更多>>
相关外文会议
Conference on Microfluidics, BioMEMS, and Medical Microsystems; 20080121-22; San Jose,CA(US)
Photoelectronic Detection and Imaging: Technology and Applications '93
Noise and Stochastics in Complex Systems and Finance; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6601
Intelligent Robots and Computer Vision XVII: Algorithms, Techniques, and Active Vision
World Multiconference on Systemics, Cybernetics and Informatics and 5th International Conference on Information Systems Analysis and Synthesis Vol.6: Image, Accoustic, Speech and Signal Processing, Jul 31-Aug 4, 1999, Orlando, Florida
Image processing: algorithms and systems XIII
Public Wireless LAN Conference Nov 27-28, 2002 The Hatton, London
9th ACM international workshop on data engineering for wireless and mobile access 2010
Conference on Independent Component Analyses, Wavelets, Unsupervised Smart Sensors, and Neural Networks II; 20040414-20040415; Orlando,FL; US
Solid State Lasers II
更多>>
热门会议
Meeting of the internet engineering task force;IETF
日本建築学会;日本建築学会大会
日本建築学会(Architectural Institute of Japan);日本建築学会年度大会
日本建築学会学術講演会;日本建築学会
日本建築学会2010年度大会(北陸)
Korean Society of Noise & Vibration Control;Institute of Noise Control Engineering;International congress and exposition on noise control engineering;ASME Noise Control & Acoustics Division
土木学会;土木学会全国大会年次学術講演会
応用物理学会秋季学術講演会;応用物理学会
総合大会;電子情報通信学会
The 4th International Conference on Wireless Communications, Networking and Mobile Computing(第四届IEEE无线通信、网络技术及移动计算国际会议)论文集
更多>>
最新会议
2011 IEEE Cool Chips XIV
International workshop on Java technologies for real-time and embedded systems
Supercomputing '88. [Vol.1]. Proceedings.
RILEM Proceedings PRO 40; International RILEM Conference on the Use of Recycled Materials in Buildings and Structures vol.1; 20041108-11; Barcelona(ES)
International Workshop on Hybrid Metaheuristics(HM 2007); 20071008-09; Dortmund(DE)
The 57th ARFTG(Automatic RF Techniques Group) Conference, May 25, 2001, Phoenix, AZ
Real Time Systems Symposium, 1989., Proceedings.
Conference on Chemical and Biological Sensing V; 20040412-20040413; Orlando,FL; US
American Filtration and Separations Society conference
Combined structures congress;North American steel construction conference;NASCC
更多>>
全选(
0
)
清除
导出
1.
Effect of Dissolved CO_2 in De-ionized Water in Reducing Wafer Damage During Megasonic Cleaning in MegPie~®
机译:
去离子水中溶解的CO_2在MegPie〜®超声清洗中减少晶片损伤的作用
作者:
S. Kumari
;
M. Keswani
;
S. Singh
;
M. Beck
;
E. Liebscher
;
L. Q. Toan
;
S. Raghavan
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
2.
Cleaning Challenges and Solutions for Advanced Technology Nodes
机译:
先进技术节点的清洁挑战和解决方案
作者:
P.W. Mertens
;
R. Vos
;
W. Masayuki
;
S. Arnauts
;
H. Takahashi
;
D. Tsvetanova
;
D. Cuypers
;
S. Sioncke
;
N. Valckx
;
S. Brems
;
M. Hauptmann
;
M. Heyns
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
3.
Investigation of Galvanic Corrosion Characteristics between Tantalum Nitride and Poly Silicon in Dilute HF Solutions
机译:
稀HF溶液中氮化钽与多晶硅之间电偶腐蚀的研究
作者:
R. Govindarajan
;
M. Keswani
;
S. Raghavan
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
4.
Metal Electrode Contact Cleaning in Small Dimension Phase Change Memory
机译:
小尺寸相变存储器中的金属电极接触清洗
作者:
JinHye Bae
;
WonJun Lee
;
DaeHyuk Chung
;
InSeak Hwang
;
DongHo Ahn
;
SeokWoo Nam
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
5.
Development of a Wet Silicon Removal Process for Replacement Metal Gate and Sacrificial Fin
机译:
开发用于替代金属栅极和牺牲鳍的湿法去除硅工艺
作者:
Samuel Suhard
;
Farid Sebaai
;
Antoine Pacco
;
Anabela Veloso
;
Laureen Carbonell
;
Martine Claes
;
Herbert Struyf
;
Paul Mertens
;
Stefan De Gendt
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
6.
Observation of Removal Process of Thin Metal Film on Glass Surface by Steam- Water Mixed Spray: Application to Au Film Removal in LED Manufacturing
机译:
汽水混合喷雾去除玻璃表面金属薄膜的过程观察:在LED制造中去除金膜的应用
作者:
T. Sanada
;
K. Hashimoto
;
A. Hayashida
;
M. Watanabe
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
7.
High-Speed Droplet Impact as an Elementary Process of Physical Cleaning
机译:
高速液滴撞击是物理清洁的基本过程
作者:
T. Fujikawa
;
Y. Tatekura
;
K. Kobayashi
;
T. Sanada
;
A. Hayashida
;
M. Watanabe
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
8.
Analysis on Threshold Energy of Particle Removal in Spray Cleaning Technology
机译:
喷雾清洗技术中去除颗粒物的阈值能量分析
作者:
M.Sato
;
K.Sotoku
;
K.Yamaguchi
;
T.Tanaka
;
M.Kobayashi
;
S.Nadahara
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
9.
Design, Fabrication, and Performance Test of a Quartz Horn Megasonic Waveguide for Semiconductor Cleaning
机译:
用于半导体清洗的石英喇叭兆频声波波导的设计,制作和性能测试
作者:
Hyunse Kim
;
Yanglae Lee
;
Euisu Lim
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
10.
Processing of Mechanically Polished Surfaces of Bulk GaN Substrates
机译:
大块GaN衬底的机械抛光表面处理
作者:
G. Nowak
;
G. Kamler
;
J.L.Weyher
;
I. Grzegory
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
11.
Water Motion over a Wafer Surface Rotating in a Single-Wafer Wet Cleaner
机译:
在单晶片湿清洁器中旋转的晶片表面上的水运动
作者:
Hitoshi Habuka
;
Shintaro Ohashi
;
Taka-Aki Tsuchimochi
;
Tetsuo Kinoshita
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
12.
Deoxification of Liquids for Advanced Semiconductors Processing
机译:
用于先进半导体加工的液体排毒
作者:
C. Gottschalk
;
U. Brammer
;
Y. Le Tiec
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
13.
Surface Contamination Removal from Si PV Substrates Using a Biodegradable Chelating Agent and Detection of Cleaning Endpoints Using UV/VIS Spectroscopy
机译:
使用可生物降解的螯合剂去除Si PV基板的表面污染,并使用UV / VIS光谱检测清洁终点
作者:
Mark George
;
Helmuth Treichel
;
David Bohling
;
Avery Goldstein
;
Herbert Litvak
;
Sara Ostrowski
;
Ian Mowat
;
Werner Kern
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
14.
Characterization of Post Etch Residues on Patterned Porous Low-k Dielectric Using Multiple Internal Reflection Infrared Spectroscopy
机译:
利用多重内反射红外光谱表征多孔低介电常数介电层上蚀刻后的残留
作者:
Sirish Rimal
;
Nick Ross
;
Karthikeyan S.M. Pillai
;
Kanwal Jit Singh
;
Oliver Chyan
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
15.
Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS) Analysis of BTA Removal by TMAH during Post Cu CMP Cleaning Process
机译:
后铜CMP清洗过程中TMAH去除BTA的电化学阻抗谱(EIS)分析
作者:
R. Prasanna Venkatesh
;
Hyuk-Min Kim
;
S.Ramanathan
;
Jin-Goo Park
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
16.
Effect of Pump Pulsation on Particle Contamination on Wafer Surface in Wet Cleaning System
机译:
湿式清洗系统中泵的脉动对晶片表面颗粒污染的影响
作者:
Jung-Soo Lim
;
R. Prasanna Venkatesh
;
Jin-Goo Park
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
17.
Nano Gas Cluster Dry Cleaning for Damage Free Particle Removal
机译:
纳米气体团簇干洗技术,用于去除无损颗粒
作者:
Min-Su Kim
;
Bong-Kyun Kang
;
Seung-Ho Lee
;
Deok-Joo Yoon
;
Hoo-Mi Choi
;
Ho-Joong Kim
;
Tae-Sung Kim
;
Jin-Goo Park
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
18.
Interactions between Developable Bottom Anti Reflective Materials and Surfac< Preparations
机译:
可显影的底部抗反射材料与Surfac <制剂之间的相互作用
作者:
P.Garnier
;
G.Briend
;
D.Jeanjean
;
L.Babaud
;
M.May
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
19.
Plasma Strip of Cold Implant Photoresist
机译:
等离子冷植入光刻胶
作者:
Shijian Luo
;
Carlo Waldfried
;
Ivan Berry
;
Dwight Roh
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
20.
Processing and Characterization of GaSb/High-k Dielectric Interfaces
机译:
GaSb / High-k介电界面的处理和表征
作者:
E. Hwang
;
C. Eaton
;
S. Mujumdar
;
H. Madan
;
A. Ali
;
D. Bhatia
;
S. Datta
;
J. Ruzyllo
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
21.
SiGe Alloys Sensitivity to Frond-End Surface Preparations
机译:
SiGe合金对前端表面处理的敏感性
作者:
G. Briend
;
P. Gamier
;
D. Jeanjean
;
N. Breil
;
O. Gourhant
;
D. Dutartre
;
D. Pellissier-Tanon
;
Y. Campidelli
;
G. Bidal
;
D. Levy
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
22.
Drying Performance of Single IPA Dryer to Prevent Pattern Collapse and Watermark
机译:
单个IPA干燥机的干燥性能可防止图案塌落和水印
作者:
Daehong Eom
;
Kyunghyun Kim
;
Yugyun Shin
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
23.
Investigation on the Drying Dynamics of Millimetric Water Droplets: Source of Watermarks on Silicon Wafers
机译:
毫米水滴干燥动力学的研究:硅晶片上水印的来源
作者:
N.Belmiloud
;
A.H.Tamaddon
;
P.W.Mertens
;
X.Xu
;
H.Struyf
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
24.
A New Cleaning Technology Using the Effect of Freezing Water on Wafer Surface
机译:
利用晶圆表面冷冻水作用的新型清洁技术
作者:
Katsuhiko Miya
;
Naozumi Fujiwara
;
Masahiko Kato
;
Akira Izumi
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
25.
Effect of Acoustic Cavitation on Dissolved Gases and Their Characterization During Megasonic Cleaning
机译:
超声清洗过程中空化对溶解气体的影响及其表征
作者:
Bong-Kyun Kang
;
Min-Su Kim
;
Seung-Ho Lee
;
Hong-Seong Sohn
;
and Jin-Goo Park
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
26.
Challenges of Wafer Surface Preparation in Advanced Technologies
机译:
晶圆表面处理在先进技术中的挑战
作者:
Scott Ku
;
Matt Yeh
;
K.B. Huang
;
C.M. Yang
;
C.C. Chen
;
J.P. Chuang
;
S.M. Jang
;
David Huang
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
27.
Improving Megasonic Exposure Uniformity for ElV Mask Substrate Cleaning
机译:
改善ElV掩模基板清洁的超音波曝光均匀性
作者:
Matthew House
;
Abbas Rastegar
;
Don Dussault
;
Eric Liebscher
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
28.
Optimization of DIO_3 with Mcgasonic Cleaning of Ru Capped EUVL Mask for Effective Carbon Contaminant Removal
机译:
气相沉积Ru封顶EUVL掩模的气膜清洗优化DIO_3。
作者:
Seung-ho Lee
;
Bong-kyun Kang
;
Min-su Kim
;
Jung-soo Lim
;
Ji-hyun Jeong
;
Jin-Goo Park
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
29.
Galvanic Corrosion of PN Junctions during the Dielectric Removal with HF for RMG Transistors
机译:
RMG晶体管的HF介电去除过程中PN结的电偶腐蚀
作者:
Antoine Pacco
;
F. Sebaai
;
S. Suhard
;
H. Struyf
;
S. De Gendt
;
R.Vos
;
A. Veloso
;
P.W. Mertens
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
30.
Determining the Fundamental Kinetic Parameters for Rinsing and Cleaning of Hafnium-Based High-k Materials
机译:
确定漂洗和清洁Ha基高k材料的基本动力学参数
作者:
Davoud Zamani
;
Manish Keswani
;
Jun Yan
;
Srini Raghavan
;
Farhang Shadman
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
31.
Lattice Boltzmann Simulation of Cavitation and Particle Behavior Induced by Sonication Transducer
机译:
超声换能器引起的空化和颗粒行为的格子Boltzmann模拟
作者:
Hojoong Kim
;
Taesung Kim
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
32.
Cleaning Challenges of EUV Mask Substrates, Blanks, and Patterned Mask
机译:
EUV掩模基板,坯料和图案化掩模的清洁挑战
作者:
A. Rastegar
;
Matthew House
;
Arun John Kadaksham
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
33.
Characterization of Semiconductor Surfaces During Surface Conditioning and Functionalization
机译:
在表面调节和功能化过程中半导体表面的表征
作者:
Yves J. Chabal
;
Oliver Seitz
;
Damien Aureau
;
Peter Thissen
;
Tatiana Peixoto
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
34.
Optimization of CO_2 Gas Cluster Generation for Cleaning Application
机译:
清洁应用中CO_2气体团簇生成的优化
作者:
Hoomi Choi
;
Hojoong Kim
;
D. J. Yoon
;
J. W. Lee
;
B. K. Kang
;
M. S. Kim
;
J. G.Park
;
Taesung Kim
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
35.
Effects of Varying Surface Film Thickness on Particle Adhesion in Semiconductor Material-Based Systems
机译:
基于半导体材料的系统中不同的表面膜厚度对颗粒附着力的影响
作者:
K. M. Smith
;
J. W. Butterbaugh
;
S. P. Beaudoin
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
36.
Dry Strip Removal of Si-Containing Anti-Reflective Coating Photo Resist Stacks
机译:
含硅抗反射涂层光刻胶堆叠的干法去除
作者:
D. Mattson
;
J. Deluca
;
S. Luo
;
J. Tracy
;
D. Roh
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
37.
PR and BARC Wet Strip in BEOL Patterning Using a UV-Enabled Aqueous Process
机译:
使用启用了UV的水性工艺在BEOL图案中进行PR和BARC湿法剥离
作者:
E. Kesters
;
Q.T. Le
;
M. Lux
;
G. Vereecke
;
H. Struyf
;
S. De Gendt
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
38.
Wet Cleaning and Surface Preparation for Ge
机译:
锗的湿法清洁和表面处理
作者:
H. Takahashi
;
M. Wada
;
J. Snow
;
R. Vos
;
P. W. Mertens
;
H. Shirakawa
;
S. Nadahara
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
39.
Formation of Pyramidal Etch Pits Induced by Metallic Particles on Ge(100) Surfaces in Water
机译:
金属微粒在水中Ge(100)表面上引起的金字塔形腐蚀坑的形成
作者:
Kenta Arima
;
Tatsuya Kawase
;
Keisuke Nishitani
;
Atsushi Mura
;
Kentaro Kawai
;
Junichi Uchikoshi
;
Mizuho Morita
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
40.
Silicon Nano-Pillar Test Structures for Quantitative Evaluation of Wafer Drying Induced Pattern Collapse
机译:
硅纳米柱测试结构用于定量评估晶片干燥引起的图案塌陷
作者:
I. Vos
;
D. Hellin
;
J. Vertommen
;
M. Demand
;
W. Boullart
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
41.
Integrated Experimental and Numerical Study of Thermomechanical Resist Removal-Cleaning Performance Using Cryogenic Micro-Solid Nitrogen Spray
机译:
低温微固氮喷雾去除热机械阻力的综合实验与数值研究
作者:
J. Ishimoto
;
D. Tan
;
U. Oh
;
T. Kubota
;
S. Samukawa
会议名称:
《Semiconductor cleaning science and technology 12 (SCST 12)》
|
2011年
意见反馈
回到顶部
回到首页