Sharp Laboratories of America, 5700 NW Pacific Rim Blvd. Camas, WA 98607;
机译:通过添加薄的Zr中间层来提高硅化镍的热稳定性
机译:通过使用钼中间层改善镍硅化的Si_(0.8)Ge_(0.2)层的形貌稳定性
机译:向多晶硅栅中注入氮(N / sub 2 // sup + /)对在多晶硅栅上形成的硅化钴的热稳定性的影响
机译:用CO,Polysilicon和SiGe与CO中间层硅化镍的稳定性改进
机译:通过用硅或镍-钴双分子层对硅进行完全硅化来实现双重功函数金属栅极。
机译:高效稳定的硅微线光电阴极与硅化镍中间层可用于强碱性解决方案
机译:高效稳定的硅片微针光电阴极用镍硅化物中间层,用于强烈碱性溶液的操作