首页> 外文会议>Security of Distributed Control Systems, 2005 >High suppression of the short-channel effect in ultrathin SOIn-MOSFETs
【24h】

High suppression of the short-channel effect in ultrathin SOIn-MOSFETs

机译:超薄SOIn-MOSFET中对短沟道效应的高度抑制

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

High suppression of threshold voltage roll-off and subthresholdnslope characteristics have been experimentally shown in ultrathin SOInn-MOSFETs in the 40-135 nm gate length regime, and the effectiveness ofnan ultrathin SOI layer to prevent the short channel effect wasnexperimentally confirmed
机译:在超薄SOInn-MOSFET的栅极长度范围为40-135 nm的实验中,已显示出对阈值电压滚降和亚阈值斜率特性的高度抑制,并且实验证实了超薄SOI层防止短沟道效应的有效性。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号