University of Texas at Arlington, USA;
Copper; Dielectrics; Finite element analysis; Flip-chip devices; Reliability; Stress; BEoL; Crack; Cu Pillar; Flip-Chip; Low-K;
机译:电流应力作用下带有ENEPIG Cu衬底的Cu柱Sn-Ag微凸块中金属间化合物的形成和转化
机译:低温热压结合的Cu / Sn-Ag柱状凸点的结合性能和可靠性
机译:PCB焊盘金属表面处理对板载芯片(COB)组件的Cu-Pillar / Sn-Ag微凸点焊接可靠性的影响
机译:回流下铜支柱替换SN-AG凸块的影响 - 计算研究
机译:BEoL Cu / Low-k叠层的3-D断裂研究,以评估和减轻回流过程中的CPI风险。
机译:多重回流对Sn-0.5Cu-Al(Si)焊料和Cu基质的界面反应和力学性能的影响
机译:凸型冶金下的效果和回流在Cu衬底和Sn-36pb-2Ag焊料合金中剪切强度和微观结构