Guizhou University,Guizhou,Guiyang 550025,P.R.China;
Henan Institute of Science and Technology,Xinxiang 453003,P. R. China;
Chemical mechanical polishing; microcontroller AT89S52; nRF24L01; temperature display;
机译:第一原理分子动力学研究Ceria /二氧化硅滑动界面对化学机械抛光过程的功能材料设计
机译:调节温度对氧化物化学机械抛光工艺抛光垫的影响
机译:用于机器人抛光应用的电化学机械抛光末端执行器的协同集成设计
机译:化学机械抛光抛光界面温度信号无线接收机和显示系统的设计
机译:化学机械抛光界面处的机械相互作用。
机译:化学机械抛光实施后化学机械抛光对钛植入物表面性质的影响FT-IR和钛植入物表面的润湿性数据
机译:化学机械抛光中抛光接口温度信号无线接收与显示系统的设计