机译:调节温度对氧化物化学机械抛光工艺抛光垫的影响
Research Institute of Energy Resources Technology, Chosun University, Gwangju 501-759, Republic of Korea;
chemical mechanical polishing (CMP); pad conditioning; groove; pore; viscoelastic property;
机译:控制抛光垫调节温度的化学机械抛光工艺后的氧化铟锡薄膜特性
机译:勘误到:“抛光垫处理过程对氧化物CMP的温度影响:抛光垫,浆料特性和表面反应” [Microelect。 。 83(2006)362-370]
机译:抛光垫处理工艺对氧化物CMP的温度影响:抛光垫,浆料特性和表面反应
机译:波兰速率,垫表面形态和焊盘调节在氧化物化学机械抛光中
机译:使用总体平衡模型对化学机械抛光中的垫磨损和垫修整进行建模。
机译:不锈钢304(SS304)流化床化学机械抛光(FB-CMP)工艺初步研究(SS304)
机译:用于控制化学机械抛光垫轮廓形状的调节过程的运动预测及实验证明