单晶硅窄缝化学机械抛光的控制系统设计

摘要

具有5-10mm窄缝的单晶硅是研究同步辐射光源的重要部件,国内外对于单晶硅窄缝的轨道抛光的研究微乎其微。本文提出了一种单晶硅窄缝化学机械抛光设备的控制系统设计方法。该控制系统以固高运动控制器和C++Builder软件为核心,实现控制伺服电机的旋转运动和水平往复周期性运动,并使用该系统成功加工出了满足表面质量要求的单晶硅窄缝。