SEMATECH (USA) 2706 Montopolis Drive, Austin, Texas, 78741, USA;
EUV; substrate; blank; mask; defects; reflectivity; flatness; wavelength; coefficient of thermal expansion (CTE); cost of ownership;
机译:新的不透明MoSi二元掩膜空白的32纳米节点及更高的光刻资格
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机译:使用无定形Al_2O_3-ZrO_2-SiO_2复合薄膜的ArF线高透射率衰减相移掩模坯料,用于65、45和32 nm技术节点
机译:商业EUV掩码32 NM HP制造的空白准备情况
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:集成的连续生物处理:临床和商业抗体生产的经济操作和环境可行性
机译:EUVL掩模空白缺陷对32-NM HP节点的可检测性和可打印性