Photomask Team, Semiconductor RD Center, Samsung Electronics Co., LTD., San #24 Nongseo-Ri, Kiheun-Eup, Youngin-City, Kyunggi-Do, Korea, 449-711;
photomask; E-beam lithography; resist heating effect; distributed processing (DP);
机译:用于150 nm电子束光刻的化学放大抗蚀剂工艺的仿真
机译:负电子束QSR-5抗蚀剂的所有蒸发亚微米剥离光刻工艺
机译:具有正抵抗性的电子束光刻中工艺纬度调查的一种简单新方法。
机译:使用分布式处理用电子束光刻模拟抗蚀剂加热效应(DP)
机译:先进光刻胶工艺中反应动力学的建模和仿真。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:氮化硅平台上的光子集成电路电子束光刻抗蚀剂参数的测定方法