SUSS MicroOptics SA, Rouges-Terres 61, CH-2068 Hauterive, Switzerland;
SUSS MicroOptics SA, Rouges-Terres 61, CH-2068 Hauterive, Switzerland;
SUSS MicroOptics SA, Rouges-Terres 61, CH-2068 Hauterive, Switzerland;
Fraunhofer Institut IISB, Schottkystr. 10, D-91058 Erlangen, Germany;
GenISys GmbH, Eschenstr. 66, D-82024 Taufkirchen, Germany;
GenISys GmbH, Eschenstr. 66, D-82024 Taufkirchen, Germany;
SUESS MicroTec Lithography GmbH, Schleissheimerstrasse 90, D-85748 Garching, Germany;
SUESS MicroTec Lithography GmbH, Schleissheimerstrasse 90, D-85748 Garching, Germany;
Ecole Polytechnique Federate de Lausanne, EPFL STI IMT, CH-1015 Lausanne, Switzerland;
Ecole Polytechnique Federate de Lausanne, EPFL STI IMT, CH-1015 Lausanne, Switzerland;
mask aligner; proximity lithography; customized illumination; source-mask optimization; process window optimization; lithography simulation; advanced mask aligner lithography; AMALITH;
机译:定制照明,可在掩模对准仪光刻系统中优化工艺窗口并提高良率
机译:使用双面(结构化)光掩模进行掩模对准器光刻的硅通孔制造的优化光刻工艺
机译:减少计算光刻周期并提高工艺窗口可预测性的有效源掩模优化方法
机译:通过邻近i线掩模对准器光刻(和自对准双图案化)制造的周期性100 nm以下结构
机译:利用基于图像的格式,以优化模式数据格式和掩模和掩模模式生成光刻的处理
机译:高度对准的聚合物纳米线蚀刻掩模光刻可实现石墨烯纳米孔晶体管的整合
机译:采用双面(结构化)光掩模制作硅通孔制造的优化光刻工艺,用于掩模对准器光刻
机译:Ionenstrahllithographie:Entwicklung Eines 1:1 proximity projektionsverfahrens auf der Basis von Channeling-masken(离子束光刻:开发基于通道掩模的1:1接近投影方法)