Micoelectronics-Photonics Graduate Program, University of Arkansas, Fayetteville, 72701, USA;
机译:Mo /聚(甲基丙烯酸甲酯)纳米掩模通过AFM局部氧化纳米光刻技术制备的(Fe,Mn)_3O_4纳米通道
机译:原子力显微镜纳米光刻制备的MgB2超导弱连接和超导量子干涉装置
机译:发射极几何形状对基于AFM电化学纳米光刻技术制造的横向场发射二极管的影响
机译:由AFM纳米线制造的Pyrox纳米通道装置
机译:磁场增强使用原子力显微镜纳米光刻技术制造的金属-金属氧化物双势垒隧道器件中的库仑阻塞电导振荡。
机译:AFM纳米光刻制造的p型双栅极和单栅极无结累积晶体管的电性能比较和电荷传输
机译:AFM纳米光刻制造的p型双栅极和单栅极无结累积晶体管的电性能比较和电荷传输
机译:Kova-pyrex阳极保护样品的表征:mEms器件的新封装方法