Dept. of Electron. Eng., Chang Gung Univ., Taoyuan;
aluminium; bipolar integrated circuits; copper; germanium alloys; integrated memory circuits; low-power electronics; selenium alloys; tungsten; Cu chain formation; W-Gesub0.4/subSesub0.6/sub-Cu-Al; bipolar resistive switching memory device; current 1 nA to 500 muA; current 200 muA; current monitoring; erase voltage monitoring; low power operation; low resistance state; programming current; temperature 150 degC; voltage 1.3 V;
机译:Ge0.4Se0.6固体电解质中使用铜金属丝的双极电阻开关存储
机译:Ni / Si3N4 / n(+)-Sin电阻切换存储器件中的逐步双极电阻切换,用于高密度集成和n低功耗应用
机译:Cu / SiC / Au非易失性电阻存储器件中的非极性电阻切换
机译:使用新颖的W / GE_(0.4)SE_(0.6)CU / AL结构的电阻开关存储器装置的低功率操作
机译:基于五氧化二铜-铂金器件结构的纳米交叉电阻开关存储器的制作
机译:低功耗非易失性器件应用中还原氧化石墨烯存储单元的电阻切换行为
机译:Cu扩散条件对基于Cu-SiO \ u3csub \ u3e2 \ u3c / sub \ u3e的电阻存储器件转换的影响
机译:原子层沉积(aLD) - 沉积二氧化钛(TiO2)厚度对Zr40Cu35al15Ni10(ZCaN)/ TiO2 /铟(In)基电阻随机存取存储器(RRam)结构性能的影响。