VLD (Variation of Lateral Doping); edge termination;
机译:3.3 kV SiC SBD VLD边缘终端的设计与制造
机译:高性能1.2 kV,3.3 kV和5.0 kV 4H-SiC功率SBD的制造和表征
机译:具有改进的边缘端接掺杂控制的2.2 kV和3.3 kV级4H-SiC MOSFET的阻断特性
机译:3.3 kV SIC SBD的VLD边缘终端设计和制造
机译:高压(> 10 kV)4H-SiC MPS二极管的设计,制造和表征
机译:基于双4H-SiC JBS和SBD器件的高性能温度传感器
机译:4H-siC浮动结sBD(FJ_sBD)的制作