Role of Target-Substrate Distance; Pulsed Laser Ablation Technique; films;
机译:脉冲激光沉积复合氧化物薄膜中靶材距离与氧气压力的相关性
机译:氧气压力和目标衬底距离对脉冲激光沉积YBa_2Cu_3O_(7-x)薄膜表面上颗粒密度的影响
机译:脉冲准分子激光烧蚀技术在透明导电玻璃上定向生长V2O5电致变色薄膜
机译:靶衬底距离对CuinSe_2薄膜脉冲激光烧蚀技术的作用
机译:脉冲双激光烧蚀沉积热电钡8镓16锗30型I笼形薄膜的生长和表征。
机译:纳秒和飞秒脉冲激光沉积法生长和表征Cu(InGa)Se2薄膜
机译:直流反应溅射技术研究衬底温度和靶-衬底距离对TiO2薄膜生长的影响
机译:通过脉冲激光烧蚀生长外延薄膜