首页> 外文会议>LDSD 2011 >Nitrogen-Concentration Control in GaNAs/AlGaAs Quantum Wells Using Nitrogen δ-doping Technique
【24h】

Nitrogen-Concentration Control in GaNAs/AlGaAs Quantum Wells Using Nitrogen δ-doping Technique

机译:使用氮气δ掺杂技术在GANAS / Algaas量子孔中的氮浓度控制

获取原文
获取外文期刊封面目录资料

摘要

GaNAs/Al0.35Ga0.65As multiple quantum wells (MQWs) with nitrogen δ-doping were fabricated on GaAs (100) substrates by plasma-assisted molecular beam epitaxy. High controllability of nitrogen-concentrations in the MQWs was achieved by tuning nitrogen δ-doping time. The maximum nitrogen concentration in the MQWs was 2.8%. The MQWs exhibit intense, narrow photoluminescence emission.
机译:通过等离子体辅助分子束外延在GaAs(100)基板上制造具有氮δ掺杂的多量子孔(MQW)。通过调谐氮δ掺杂时间来实现MQWS中氮浓度的高可控性。 MQW中的最大氮浓度为2.8%。 MQWS表现出强烈,窄的光致发光排放。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号