Scatterometry; CD metrology; AFM; reference standard; rigorous modelling; inverse diffraction problem;
机译:整体计量方法:利用散射测量,临界尺寸-原子力显微镜和临界尺寸扫描电子显微镜的混合计量
机译:对在线临界尺寸度量的散射测量和扫描电子显微镜度量中的生产者和消费者风险的评估
机译:用比色法测定岩相聚焦参数的方法
机译:散射测定法和AFM晶圆测量的联合研究
机译:用于基于Mueller矩阵光谱椭偏仪的散射法进行定向自组装构图的光学计量学。
机译:CD-AFM量测中的横向笔尖控制效果:最大笔尖限制
机译:散射测量与AFM晶圆计量学的联合研究
机译:用于增强半导体计量开发的光学散射仪的仪器