Novel Si-contained Inorganic Hard Mask (Si-HM) for around Hp 20nm - (PPT)

机译：HP 20NM周围的新型Si含有无机硬面膜（Si-HM） - （PPT）

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EUV specific Si-HM have been developed. Radical generation unit & EUV Chromophore (Halogen, Hetero) can enhance sensitivity. X-link catalyst & high X-link polymer can increase resolution & LWR. Contrast Enhancer can improve LWR & process window. Nissan promotes NCX7300 for around Hp 20nm L/S of EUVL.

机译：EUV特定的Si-HM已经开发出来。激进的生成单元和EUV发色团（卤素，杂）可以增强灵敏度。 X-Link催化剂和高X-Link聚合物可以增加分辨率和LWR。对比度增强器可以改进LWR和过程窗口。日产促进了围绕HP 20NM L / S围绕EUVL的NCX7300。

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来源
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》|2012年||共10页
会议地点
作者
Wataru Shibayama; Shuhei Shigaki; Rikimaru Sakamoto; Bang Ching Ho;
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作者单位

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正文语种
中图分类 TN305.7-53;
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