机译:将图案化的有机抗蚀剂转化为高分辨率图案转移的高性能无机硬掩模
IMEC VZW B-3001 Leuven Belgium;
IMEC VZW B-3001 Leuven Belgium;
SwissLitho AG CH-8005 Zurich Switzerland;
IMEC VZW B-3001 Leuven Belgium;
Leibniz Inst Surface Engn IOM D-04318 Leipzig Germany;
IMEC VZW B-3001 Leuven Belgium;
IBM Res Zurich CH-8803 Ruschlikon Switzerland;
IBM Res Zurich CH-8803 Ruschlikon Switzerland;
thermal scanning probe lithography; polyphthalaldehyde; sequential infiltration synthesis; trimethyl-aluminum; plasma etching;
机译:将图案化的有机抗蚀剂转化为高分辨率图案转移的高性能无机硬掩模
机译:负混合溶胶-凝胶抗蚀剂作为硬蚀刻掩模,用于通过干蚀刻进行图案转印
机译:使用无机聚合物衍生的硅酸盐蚀刻掩模进行直接图案转移
机译:用于负面色调双图案的可图案无机硬掩模 - (PPT)
机译:用于下一代纳米光刻的无机抗蚀剂的沉积,表征,图案化和机理研究。
机译:毛细管电泳掺杂技术在有机-无机杂化膜中形成分子掺杂图案
机译:使用无机聚合物衍生的硅酸盐蚀刻掩模进行直接图案转移